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Ätzanlage zum tiefen Silicium-Ätzen für MEMS

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Die Ruhr-Universität Bochum beabsichtigt eine DRIE Ätzanlage zu beschaffen, die im Forschungslabor Mikroelektronik Bochum für Wafer-Substrate bis 200 mm Durchmesser eingesetzt werden soll. Sie soll auf dem Gebiet der Silicium-basierten Mikro-Elektro-Mechanischen Systeme (MEMS) für das tiefe anisotrope Siliciumätzen auf Basis eines zyklischen Ätzprozesses (DRIE, "BOSCH-Prozess") eingesetzt werden und darüber hinaus der Erforschung neuer Ätzkonzepte dienen, die weniger klimaschädliche Ätzgase nutzen.

Status
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Deadline
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Country
Germany
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Where this came from

Source document
https://oeffentlichevergabe.de/api/notice-exports?pubMonth=2026-08
Document fingerprint
b37acc89829a0774 (SHA-256, first 16 hex characters)
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Source: Datenservice Öffentlicher Einkauf (Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz). CC0 1.0 (CC-ZERO) — no conditions.

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