Vergabeverfahren zur Lieferung einer Gasphasenabscheidungsanlage
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Ausgeschrieben wird die Lieferung und betriebsfertige Übergabe inkl. Funktionstest, Einweisung und Abnahme eines Systems für plasma-verstärkte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) mit einer induktiv gekoppelten Plasmaquelle (ICP) zur Herstellung qualitativ hochwertiger Materialfilme mit präzise definierten Schichtdicken im Nanometer-Mikrometerbereich. Das geplante ICP-PECVD System soll die gezielte Abscheidung von dielektrische Dünnfilmen mit steuerbaren optischen Eigenschaften und präzise kontrollierbaren Schichtdicken durch in-situ Monitoring ermöglichen. Hochwertige dielektrische Schichten für optische Passivierungen, optische Wellenleiter und Mehrlagensysteme sowie als Hartmasken für hochauflösende Lithographieverfahren sollen abgeschieden werden. Im Rahmen unserer Forschungsarbeiten sollen Siliziumdioxid, Siliziumnitrid, amorphes Silizium und diamantähnliche Kohlenstoffschichten mit einer neuen Anlage optimiert abgeschieden werden können. Aufgrund der Vorgaben des Bewilligungs
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- Universität Heidelberg
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